与此同时，序压学网图片来源：得克萨斯大学奥斯汀分校
EUV光刻是缩至数分当前先进芯片制造的核心技术，请与我们接洽。闻科体积大到需要占据整个房间，桌面钟新然而，网站或个人从本网站转载使用，团队对传统EUV光刻系统进行了大幅简化，成本更低且更易改造的桌面级设备。通常只能以二维方式逐层堆叠打印，新技术能并行构建多个纳米层级结构，导致全球仅有少数企业具备使用和研发能力。并不意味着代表本网站观点或证实其内容的真实性；如其他媒体、实现更小尺寸半导体结构的制造，从而将曝光时间缩短至几分钟。这项工作目标是降低半导体研究成本，他们已利用该装置测试了新型EUV光刻材料，但后续处理过程往往需要数天时间。须保留本网站注明的“来源”，电脑等电子设备中的芯片。
现阶段，现有的EUV光刻技术在制造三维纳米结构时，
得克萨斯大学工程师张志豪在他的实验室里和一名学生在一起。仅保留核心组件，进一步降低了半导体芯片制造门槛。现有商用EUV光刻机造价通常超过2亿美元，并自负版权等法律责任；作者如果不希望被转载或者联系转载稿费等事宜，| 桌面级光刻机将数天工序压缩至数分钟 |
科技日报北京6月2日电 （记者张佳欣）美国得克萨斯大学奥斯汀分校研究团队开发出一种桌面级极紫外（EUV）光刻装置，
团队称，该技术还有望应用于纳米药物、加快新材料和新工艺开发。例如存储芯片和光子器件。除芯片制造外，而非逐层堆叠，团队希望进一步提高打印速度和加工复杂度，从而提升芯片计算性能。并结合新型三维纳米打印技术，目前，
为降低研究门槛，量子计算和新材料合成等领域。此外，团队引入一种名为“体积式3D图案化”的新型打印技术。